电镀与精饰

无机化工论文_低共熔溶剂中Ni-Co合金电沉积的

 
文章目录

1 实验方法

1.1 主要试剂

1.2 溶液制备

1.3 电沉积

1.4 耐蚀性测试

2 结果与讨论

2.1 沉积温度对镀层性能的影响

2.2 沉积电位对镀层性能的影响

2.3 主盐浓度比对镀层性能的影响

2.4 最优条件下制备镀层的性能表征

3 结论

文章摘要:在摩尔比为1∶2的氯化胆碱-尿素(ChCl-Urea)低共熔溶剂中,在纯铜基体表面制备Ni-Co合金镀层。分别研究沉积温度、沉积电位、主盐浓度比三种因素对Ni-Co合金沉积镀层的影响,通过观察镀层的微观形貌,并利用极化曲线对Ni-Co合金镀层的耐蚀性进行分析,确定ChCl-Urea-NiCl2·6H2O-CoCl2·6H2O体系中最佳沉积条件为:沉积电位为-1.00V,镍盐与钴盐的摩尔浓度比为5∶1,沉积温度为70℃,沉积时间为30min。制备的镀层均匀致密,具有良好的耐蚀性。

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